化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)、航空、航天科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。它可提供多種拋光工藝來(lái)優(yōu)化產(chǎn)品開(kāi)發(fā)。包括廣泛的速度范圍、閉環(huán)加載力控制、多功能晶圓夾具和自動(dòng)漿料輸送系統(tǒng)。化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)在拋光過(guò)程中可以監(jiān)測(cè)多個(gè)在線(xiàn)信號(hào)。除了拋光晶片和基板外，該拋光機(jī)還配有在線(xiàn)三維形貌儀。這種組合提供了有關(guān)表面、摩擦和磨損如何變化的信息。

 

　　化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)一般采用空氣干燥，不要用機(jī)器烘干。吸油性：其切削力弱于羊毛切削力，不會(huì)留下旋紋，能有效去除中度的漆面缺陷。拋光盤(pán)底面具有自動(dòng)粘貼功能，可以快速轉(zhuǎn)換拋光輪。適用于車(chē)內(nèi)普通漆、透明漆的磨光、拋光，一般用于毛料拋盤(pán)后拋光、打蠟。使用方法：溫水洗凈，擠去水份，置于潔凈處晾干。請(qǐng)勿使用肥皂或清潔劑清洗，不可干洗或機(jī)洗，不要用梳毛刷或螺絲刀清洗海綿輪。兔毛拋盤(pán)：兔毛拋盤(pán)位于毛線(xiàn)拋盤(pán)與海綿拋盤(pán)之間，底部有自動(dòng)粘貼，可用來(lái)清潔車(chē)身。

 

　　產(chǎn)品主要特色：

　　1、CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，3區(qū)壓力分區(qū)控制，可得到良好的工業(yè)級(jí)拋光效果；

　　2、自動(dòng)上下片，自動(dòng)拋光，干進(jìn)干出；

　　3、拋光墊修整器：擺臂式設(shè)計(jì)，拋光墊分10區(qū)修整控制，可調(diào)整修整器下壓力及每個(gè)區(qū)域的修整時(shí)間，可保證拋光墊高水平修整；

　　4、拋光墊修整器：具有在線(xiàn)修整與離線(xiàn)修整兩種模式；

　　5、工藝數(shù)據(jù)可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)；

　　6、可存儲(chǔ)多個(gè)Recipe；

　　7、帶全自動(dòng)手臂及自動(dòng)雙面清洗設(shè)備模塊。

 

　　化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)的技術(shù)指標(biāo)：

　　1、采用去離子水粘貼硅片或采用真空吸附硅片進(jìn)行拋光，摒棄傳統(tǒng)的涂蠟粘貼硅片的方式，有利于拋光后硅片的清洗；

　　2、具備背壓功能，能夠顯著提升拋光的均勻性；

　　3、具備拋光終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)，防止過(guò)拋。